ES01系列是ELLITOP针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度快速摄谱型光谱椭偏仪，波长范围覆盖紫外、可见到红外。 ES01光谱椭偏仪基于高灵敏度光谱探测单元和光谱椭偏仪分析软件，用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k，或介电函数ε1和ε2），也可用于测量块状材料的光学性质。
ESH系列是ELLITOP针对科研和工业客户中薄膜测量推出的高精度、快速椭偏膜厚测量仪，集合了椭偏仪的高精度和膜厚仪的测量范围广、测量速度快、极小光斑（5μm）等特点，波长范围覆盖紫外、可见到红外。仪器基于高灵敏度光谱探测单元和光谱椭偏仪分析软件，主要用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如，厚度)和物理参数(如，折射率n、消光系数k，或介电函数ε1和ε2)，也可用于测量块状材料的光学性质。
EMPro系列是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。 EMPro系列可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。
EMPro-PV是ELLITOP针对光伏太阳能电池高端研发和质量控制领域推出的专用型多入射角激光椭偏仪。 EMPro-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EMPro-PV融合多项量拓科技专利技术，采用单多晶一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品，并实现二者的瞬间轻松转换。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。
EGS01系列是ELLITOP针对科研和工业环境推出的高精度快速摄谱型广义光谱椭偏仪，波长范围覆盖紫外、可见到红外。 EGS01广义光谱椭偏仪采用宽带超消色差补偿器、利用快速补偿器同步扫描测量的采样模式、基于高灵敏度探测单元和光谱椭偏仪分析软件，用于测量纳米薄膜样品、块状材料和各向异性材料。
半导体产业是以半导体为基础发展起来的一个产业，这个产业包括从半导体材料的提取、设备制造、芯片设计、制造到封装测试的整个过程，涵盖了从上游材料及设备提供、中游芯片设计及制造到下游终端应用的三大环节。半导体产业的核心技术包括芯片的研发和设计能力，对工艺控制能力和精密度要求较高，特别是随着品圆尺寸的增加和芯片制程的先进化，对晶圆和芯片制造商的技术能力要求也将不断增强。随着半导体行业不断实现摩尔定律，薄膜厚度越来越薄，芯片制造商必须实施有效的超薄电介质材料的过程监测。
EH100-X膜厚仪是应用于工业和科研领域中薄膜厚度常规测量的经济型解决方案，仪器一键操作极其简单，可测量从几纳米到数百微米厚的透明或半透明薄膜，一次测量1秒内完成。 EH100-X膜厚仪基于白光干涉反射光谱的测量原理。宽光谱光波0°垂直入射到样品表面，在样品基底和膜层之间发生干涉，反射光波由高灵敏度光谱阵列探测单元接收，采用专用软件对光波的光谱反射率进行分析，得到样品镀层的膜厚信息。进一步，还可以通过分析得到膜层的其它物理信息（如，折射率、消光系数）。 仪器适合于工业和科研中的常规测量，可应用于多种薄膜镀层工艺中，如化学机械抛光、化学气象沉积、物理气相沉积、旋涂成膜工艺等。
北京量拓科技有限公司(ELLITOP SCIENTIFIC CO., LTD.)成立于2008年4月，是中国具有影响力的专业椭偏测量整体解决方案提供商。专业致力于椭偏测量的方法研究、技术开发、产品制造和销售，并提供椭偏测试服务和椭偏测量整体解决方案。经过持续的创新发展，产品已应用于计量、工业质检、研究开发等领域，服务于半导体、光伏、光电子、纳米材料、光通讯、遥感等行业。
